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氧化鉭

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在5G及網通領域,高密度分波多工被動光纖網路 (DWDM)系統所需的薄膜濾光片 (TFF)技術門檻高,鍍膜技術以及鍍膜材料成為此領成敗關鍵。若要在被鍍膜物件表面得出均勻的厚度與穩定的鍍率,濺鍍靶材的純度與緻密度成為重要關鍵。


台灣應用晶體運用晶體生長及退火經驗,開發出陶瓷燒結技術,製作出高緻密度(>90%)氧化鉭及氧化鈮靶材。濺鍍 (或蒸鍍) 過程無火花,鍍率穩定。



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